立式大容量全温振荡培养箱 全温振荡培养箱 型号：DP/ZQLY-300 一、产品介绍和使用范围
立式振荡培养箱，广泛的应用于微生物、细菌培养、发酵、杂交和生物化学反应以及细胞组织等研究。为温度、振荡频率、振幅有不同要求的培养以及酶工程等方面的研究提供了有效的帮助。
三、技术指标
品 名 立式大容量全温振荡培养箱
型 号 DP/ZQLY-300
振荡频率 30-300rpm
振荡频率精度 ±1rpm
摇板振幅 Ф26mm
温控范围 4℃～60℃
温度调节精度 ±0.1℃
温度均匀度 ±1℃
显示方式 LCD（液晶显示屏）
对流方式 强制对流
控制方式 P．I．D微电脑智能控制
容量 250ml×40或500ml×28或1000ml×15或2000ml×8 共两层
定时范围 0-999.9小时
摇板尺寸 455×786mm 共两层
标准配置 夹具（固定夹具可选）
电 源 AC220±10% 50～60Hz
外型尺寸（长×宽×高） 962×781×1430mm
重 量 260kg 差热分析仪 /差热检测仪 型号：DP/DZ3331 产品介绍:
差热分析是在程序控制温度下，测量物质与参比物之间的温度差与温度关系的一种技术。差热分析曲线是描述样品与参比物之间的温度(△T)随温度或时间的变化关系。在DTA试验中，样品温度的变化是由于相转变或反应的吸热或放热效应引起的。如：相转变，熔化，结晶结构的转变，沸腾，升华，蒸发，脱氢反应，断裂或分解反应，氧化或还原反应，晶格结构的破坏和其他化学反应。
技术参数:
1. 温度范围: 室温~1350℃
2. 量程范围: 0～±2000μV
3. DTA精度: ±0.1μV
4. 升温速率: 1～80℃/min
5. 温度分辨率: 0.1℃
6. 温度准确度: ±0.1℃
7. 温度重复性: ±0.1℃
8. 温度控制: 升温：程序控制 可根据需要进行参数的调整
降温：风冷 程序控制 可选配 半导体冷却系统、液氮冷却系统 等
恒温：程序控制 恒温时间任意设定
9. 炉体结构: 炉体采用上开盖式结构，代替了升降炉体，精度高，易于操作
10. 气氛控制: （选配）气体流量计，气氛转换装置
11. 数据接口: 标准USB接口 配套数据线和操作软件
12. 主机显示: 24bit色 7寸 LCD触摸屏显示
13. 参数标准: 配有标准物，带有一键校准功能，用户可自行对温度进行校正
14. 基线调整: 用户可通过基线的斜率和截距来调整基线
15. 工作电源: AC 220V 50Hz 实验室小型涂布机/自动涂布机/自动涂膜机 型号;DP24772 DP24772 自动涂膜机用于制备均一可溯的涂膜（手工涂膜经常不协调，是不同操作人员之间，这就使得试样的比较很困难，甚至是不可靠），其重现性好。因为影响涂膜的因素是剪切速率和加在施工工具上的重量。该仪器使用一个精确控制的线棒或涂膜器，以选定的速度来回移动。由于试纸平整地被吸附在吸盘上且涂膜时剪切速率和加在施工工具上的重量保持不变，从而提高了涂膜的重现性。
◆ 宽范围无级调速：5~150mm/s
◆ 滚珠丝杆+直流无刷电机，使涂膜速度更平稳
◆ 真空泵外置，避免了传统机器（真空泵内置）结构在涂膜时产生的抖动。
◆ 涂膜支架，操作简单方便，并可任意增加支架负载。
◆ 高平整度，高表面硬度的真空吸气平台
◆ 随意设定涂膜起点，适应不同尺寸底材。
◆ 四种涂膜距离选择
◆ 适用各种不同形状大小的涂膜器及涂布棒
主要技术参数：
■ 真空吸盘尺寸：360 mm × 250 mm
■ 可涂布长度：四种涂布距离可选，长25cm
■ 涂布速度：0 ～ 150mm/s 无级变速
■ 涂膜支架负重： 1.5KG（可选配2KG，2.5KG负重）
■ 总功率：300W
■ 电源： 220V；50/60DPz
■ 外形尺寸：500×342×272mm（（长×宽×高；不含真空泵）
■ 重量：25KG
溶解氧仪 台式溶解氧仪型号：DP-605F 型号 技术参数 | DP-605F | 测量参数 | 浓度，饱和度，温度值 | 测量范围 | 溶解氧 | (0.00～20.00)mg/L | 溶解氧饱和度 | (0.0～300.0)% | 温度 | （-5.0～110.0）℃ | 基本误差 | 溶解氧 | ±0.30 mg/L | 溶解氧饱和度 | ±10%FS | 温度 | ±0.4℃ | 稳定性 | (±0.07mg/L)/1h | 响应时间 | ≤45s（20℃时90%响应） | 零值误 | ≤0.10mg/L | 温度补偿 | 自动(0.0～40.0) ℃ | 电源 | 直流通用电源(9VDC，500mA，内正外负) | 尺寸(mm)，重量(kg) | 280×215×92，1 |
硫氯分析仪/微库仑综合分析仪 型号:DP24758 DP24758型硫氯分析仪应用微库仑分析技术，采用氧化法将样品通过裂解炉氧化为可滴定离子，在滴定池中滴定，根据电解滴定过程中所消耗的电量，依据法拉第定律，计算出样品中硫或氯的含量。广泛应用于检测液体、固体或气体样品中的硫氯含量。
技术参数 偏压范围：0 ～ 500mv
样品种类：液体、气体和固体
测量范围：S：0.1 ～10000 ng/μl
Cl：0.2 ～10000 ng/μl 控温范围：室温～1000℃
控温精度：±1℃
测量精度： 样品浓度(ng/μl) | 进样体积(μl) | RSD(%) | 0.2 | 10 | 35 | 1.0 | 10 | 10 | 100 | 5 | 5 | 1000 | 5 | 2 |
气源要求：普氮和普氧
电源要求：AC 220V±22V，50HZ±0.5HZ
功 率：3.5KW
外形尺寸：主 机：410×350×75(mm)
温 控：530×420×360(mm)
搅拌器：290×270×360(mm)
进样器：350×130×140(mm)
|
